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薄膜分析

X射线衍射对于研究外延层和其他薄膜材料具有特殊价值。采用精密的晶格参数的测量方法,可以很准确的确定晶格的外延层及其基底。在外延器件中晶格参数匹配或不匹配是一个重要因素如磁泡存储器的磁性石榴石薄膜,LED用掺杂砷化镓薄膜和高速晶体管和其他重要的电子产品。对于薄膜X射线衍射的另一个应用是使用高温衍射通过测定晶格参数随温度的变化来确定热膨胀系数。

 

系统
  • 摇摆曲线: SmartLab®, Ultima IV

  • 倒易空间图测量: SmartLab®, Ultima IV

  • 膜厚测量,粗糙度,密度: SmartLab®, Ultima IV

  • 反射测量: SmartLab®, Ultima IV

  • In-plane晶体结构评价: SmartLab®, Ultima IV

  • In-plane衍射: SmartLab®, Ultima IV

  • 相分析,择优取向,畸变,残余应力: SmartLab®, Ultima IV

  • 极图,薄膜衍射: SmartLab®, Ultima IV

  • 混合晶体成分比例,晶格畸变: SmartLab®

  • 外延层厚: SmartLab®

  • 超晶格的周期性结构评价: SmartLab®

  • 实验室XRR: SmartLab®, Ultima IV

  • 高功率 θ/θ测角仪系统: TTRAX III

 

XRD